多弧离子镀膜设备

多弧离子镀膜设备 应用范围主要用于镀制多种金属，也可以镀多层膜、合金膜及化学物膜，如镀超硬耐磨损膜、防腐蚀膜、装饰膜（金、银、黑、红、蓝、绿等颜色），结合磁控溅射技术可镀制多层复合膜。可以镀制不锈钢、铝、钛、钨等多种金属膜，也可镀制合金膜或化合物，如TiN、TiC膜等, 适用于在表壳、眼镜框、餐具、五金件、刀具、陶瓷等表面镀制装饰膜或功能膜。近年，电弧离子镀膜技术得到了很大的发展，从原来单一的小弧源发展到柱弧、大平面弧等。而且与中频磁控溅射技术的结合使得设备的适用面更广，比如在硬质涂层的应用、更光洁细密的装饰涂层的应用等等。 结构特点 1、采用脉冲技术，使沉积粒子细化，膜的性能提高，且具有沉积速度快、离子能力大等特点； 2、配备柱状阴极点弧源和磁控溅射源，适合范围广； 3、新型靶源结构，有效提高离化率和膜层均匀性； 4、所镀膜层具有硬度高，膜层与基底结合强度好，耐酸、碱、盐的能力强的特点.

 

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