U-III搭载HeNe激光传感器，分辨率达0.1微米，支持0.1-5.0微米颗粒粒径的六通道分类统计（0.1/0.2/0.3/1.0/3.0/5.0μm），覆盖半导体制造中对超细微粒的严苛检测需求。
静态采样模式：通过优化气流控制，减少测量误差，提升数据稳定性。
智能化设计与操作体验
7英寸高分辨率触控屏：支持实时数据可视化与交互操作，简化流程。
双电池热插拔系统：支持连续生产场景下的不间断作业，电池更换无需停机。
USB数据接口与软件升级：便捷导出检测报告，并可通过固件更新持续优化性能。
行业应用与效益
提升制造效率
减少50%自净时间：通过量化表面污染数据，缩短设备维护周期（PM周期），提升产线吞吐量。
延长MTBC（平均无故障周期）：结合颗粒控制策略，关键设备可靠性提升4倍以上。
覆盖高洁净场景
半导体制造：晶圆表面、机台内腔等关键区域的洁净度验证。
精密光学与电子：液晶面板、光学镜片组件、医疗器械的表面污染控制。
符合国际标准
产品严格遵循ISO-14644-9表面粒子控制规范，为全球半导体厂商提供标准化检测工具。
该系列设备通过量化表面污染数据，为半导体制造中的过程控制提供标准化依据，从而优化生产良率和产品可靠性。
传感器：第七代双激光窄光检测器，寿命>200000次
测量粒径：A 0.3um、2.5um、10um；
B 0.3um、(0.5/1.0/2.5/5.0)um、10um；
C 0.3um、0.5um、1.0um、2.5um、5.0m、10um；
D 0.5um、1.0um、1.5um、2.0um、2.5um、3.0um；
E 0.5um、1.0um、3.0um、5.0um、10.0um、25.0um；
F 0.10um、0.2um、0.25um、0.5um、0.7um、1.0 μm;
粒径分布误差：≤±30%
浓度示值误差：≤±30%
重复相对偏差：≤±10%FS
重叠误差：当每立方英尺2,000,000个粒子时小于5%
气体检测：可同时检测气体浓度，支持1-3个各种类型的气体传感器
温度范围：-40 ～ 120℃
检定标准：计数报告符合GB/T16292-1996及ISO14644-1标准或GB/T6167-2007 JJF1190-2008
气泵流速：2.83L/min，28.3L/min（可选）；
采样时间：3、6、9、12、15、30、60秒（可选）；
检测模式：数量模式；质量模式； 净效模式；三种检测模式可切换
检测方式：定时检测、循环检测可设置
报警方式：自定义数量报警值、质量报警值
限值报警：RS485信号报警或外接声光报警器
法 规 性：权限管控、审计追踪、电子记录等
合 规 性：符合ISO 21501-4，CE，JIS B9921
合 规 性：符合21 CFR Part 11
通讯接口：RS232、R485、LAN-USB
存储模式：实时存储、定时存储可设置；可存储数据无限制
打印模式：可选配微型打印机打印数据
会员服务 
供应商参考报价：￥248000
