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[新品] 硫酸头孢喹肟胶体磨(CMD2000)

硫酸头孢喹肟胶体磨
供应商参考报价:¥238560
  供应商信息
· 上海依肯机械设备有限公司 [上海市]
   
联系人: 段明明
所在城市: 上海市 上海市
详细地址: 上海松江区陈春公路700号
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详细信息  

硫酸头孢喹肟胶体磨,头孢喹肟胶体磨,硫酸头孢喹肟混悬液胶体磨,硫酸头孢喹肟注射液胶体磨是透过胶体磨定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎的效果。

硫酸头孢喹肟胶体磨,微均匀,微粒大小应符合该剂型的要求;微粒沉降缓慢,口服混悬剂沉降体积比应不低于0.90,沉降后不结块,轻摇后应能迅速分散;混悬剂的粘度应适宜,倾倒时不沾瓶壁;外用混悬剂应易于涂布,不易流散;不得有发霉、酸败、变色、异臭、异物、产生气体或其他变质现象;标签上应注明用前摇匀

 

混悬剂中的微粒由于受重力作用,静置后会自然沉降,其沉降速度服从Stokes定律: 

  按Stokes定律要求,混悬剂中微粒浓度应在2%以下。但实际上常用的混悬剂浓度均在2%以上。此外,在沉降过程中微粒电荷的相互排斥作用,阻碍了微粒沉降,故实际沉降速度要比计算得出的速度小得多。由Stokes定律可见,混悬微粒沉降速度与微粒半径平方、微粒与分散介质密度差成正比,与分散介质的粘度成反比。混悬微粒沉降速度愈大,混悬剂的动力学稳定性就愈小。 

  为了使微粒沉降速度减小,增加混悬剂的稳定性,可采用以下措施:①尽可能减小微粒半径,采用适当方法将药物粉碎得愈细愈好。这是***有效的一种方法。②加入高分子助悬剂,既增加了分散介质的粘度,又减少微粒与分散介质之间的密度差,同时助悬剂被吸附于微粒的表面,形成保护膜,增加微粒的亲水性。③混悬剂中加入低分子助悬剂如糖浆、甘油等,减少微粒与分散介质之间的密度差,同时也增加混悬剂的粘度。这些措施可使混悬微粒沉降速度大为降低,有效地增加了混悬剂的稳定性。但混悬剂中的微粒***终总是要沉降的,只是大的微粒沉降稍快,细小微粒沉降速度较慢,更细小的微粒由于布朗运动,可长时间混悬在介质中。 

硫酸头孢喹肟胶体磨  选定的胶体磨作为生产头孢噻呋、头孢喹肟等混悬液的关键设备,由于价格较贵,需要在厂家现场试验,考察研磨效果。为做好此项工作,制定方案如下:

一、          周一高新区设备员根据三个厂家提供的资料,结合高新区的产能,优选出2家设备,并确定设备的型号。同时确认***小试验数量,以及试验现场是否有检验研磨粒度的仪器。

二、          周一高新区水针车间根据厂家提供的***小配料量,配制试验两家设备的物料。

1、由于硫酸头孢喹肟的价格较贵,本次试验采用盐酸头孢噻呋,暂不考虑喹肟(喹肟研磨时间较长)。

2、初步按照每家设备4升体积的试验量,准备8升数量的物料。具体物料数量由研发提供,高新区提供。

3、根据试验数量,周一做出相应比例的油胶溶液。准备试验器材。

三、          试验方案

试验目的:检验胶体磨的研磨效果以及效率

试验器材:试验用胶体磨、显微镜、载玻片、涂针、留样瓶、封口钳、8号针头、注射器,1ml移液管,温度计。

试验步骤:

1、现场确认设备的型号、性能、以及清洗方式。

2、加入物料,设定3分钟的研磨时间(假定4升物料研磨5分钟合格,那么放大至80升物料,需要研磨60分钟),取样检测粒度,记录粒度分布数量。用移液管测量流速,用8号针头测量通针性。以上数据作为比较两家设备的参数。

3、如果3分钟没有达到效果,则继续进行5分钟试验。以此类推,继续做好数据检测。

4、在研磨性能试验完成以后,利用现有物料对胶体磨进行连续开机试验,初步定为30分钟,试验胶体磨的产热降温性能。测量机体轴承处温度、测量研磨腔出来的料温温度,显微镜检查料液中是否有金属碎屑。以上数据作为比较两家设备的数据。

 

  硫酸头孢喹肟胶体磨  胶体磨,分散机组合而成的高科技产品。

***级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列,还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验指定工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下,机器的构造是和具体应用相匹配的,因而它对制造出***终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

CMD2000系列的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

 

硫酸头孢

研磨分散机

流量*

输出

线速度

功率

入口/出口连接

类型

l/h

rpm

m/s

kW

 

CMD 2000/4

300

9,000

23

2.2

DN25/DN15

CMD 2000/5

3000

6,000

23

7.5

DN40/DN32

CMD 2000/10

8000

4,200

23

22

DN80/DN65

CMD 2000/20

20000

2,850

23

37

DN80/DN65

CMD 2000/30

40000

1,420

23

55

DN150/DN125

CMD2000/50

120000

1,100

23

110

DN200/DN150

*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到***大允许量的10%。

1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。 2 处理量取决于物料的粘度,稠度和***终产品的要求。
硫酸头孢喹肟胶体磨,头孢喹肟胶体磨,硫酸头孢喹肟混悬液胶体磨,硫酸头孢喹肟注射液胶体磨是透过胶体磨定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎的效果。 ***高转速可以达到21000转  比一般国产3000转不知要强大多少倍
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